產(chǎn)品詳情
曝光過(guò)程包括：聚焦、對(duì)準(zhǔn)、曝光、步進(jìn)和重復(fù)以上過(guò)程。
光學(xué)曝光技術(shù)經(jīng)歷了不同的發(fā)展階段。harmonic光刻機(jī)系統(tǒng)諧波CSF-25-160-2A-GR按照掩模版與硅片的位置關(guān)系區(qū)分，從最初的接觸式曝光，發(fā)展到接近式曝光，直到現(xiàn)在的投影式曝光。曝光光源主要使用紫外光、深紫外光、harmonic光刻機(jī)系統(tǒng)諧波CSF-25-160-2A-GR極紫外光，現(xiàn)今最常用的是：汞燈和準(zhǔn)分子聚光光源。
光刻設(shè)備的發(fā)展和使用經(jīng)歷了五個(gè)不同階段，分別是：接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī)、掃描投影光刻機(jī)、分步重復(fù)光刻機(jī)、步進(jìn)掃描光刻機(jī)。
曝光與對(duì)準(zhǔn)過(guò)程主要由光刻機(jī)完成。harmonic光刻機(jī)系統(tǒng)諧波CSF-25-160-2A-GR光刻機(jī)造價(jià)高昂，是非常復(fù)雜的系統(tǒng)，涉及的技術(shù)也非常多。光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)的關(guān)鍵設(shè)備，也是電子制造的核心技術(shù)設(shè)備
