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美國 KRI 霍爾離子源 eH 2000

數(shù)量(臺)	價格
1111	11.00元/臺

最小起訂： 1臺
發(fā)貨地址：上海浦東新區(qū)
發(fā)布日期：2020-09-11
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伯東企業(yè)(上海)有限公司

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電話：21-5046-1322

營業(yè)執(zhí)照：已審核
經(jīng)營模式：代理商-外商獨資
所在地區(qū)：上海浦東新區(qū)
家家通積分：2705分

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詳細參數(shù)
品牌	KRI	型號	KRI霍爾離子源eH2000
用途	工業(yè)用	加工定制	是

產(chǎn)品詳情

上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 2000 特別適合大中型真空系統(tǒng), 帶有水冷方式, 低成本設(shè)計提供高離子電流. 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.

尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”

放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A 或 15A

操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

伯東 KRI 霍爾離子源 eH 2000 特性：

1.水冷 - 與 KRI 霍爾離子源 eh 1000 對比, 提供更高的離子輸出電流

2.可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時, 最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極

3.寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率

4.多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便

5.高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

伯東 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列在售型號及技術(shù)參數(shù):

離子源型號	霍爾離子源 eH2000 eH2000LE eH2000HO
Cathode/Neutralizer	F or HC HC HC
電壓	50-300V 30-150V 50-250V
電流	10A 15A 15A
散射角度	>45
可充其他	Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others
氣體流量	2-75sccm
高度	4.0“
直徑	5.7“
水冷	是

伯東 KRI 霍爾離子源 eH2000 應(yīng)用領(lǐng)域：

1. 離子輔助鍍膜 IAD

2. 預(yù)清洗 Load lock preclean

3. 預(yù)清洗 In-situ preclean

4. Direct Deb

5. Surface Modification

6. Low-energy etching

7. III-V Semiconductors

8. Polymer Substrates